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本實用新型公(gong)開了一種鈮(ni)酸鋰(li)晶體片研(yan)磨機(ji),包括:機(ji)架(jia),設置在(zai)機(ji)架(jia)中部(bu)的變(bian)頻(pin)電(dian)機(ji),在(zai)變(bian)頻(pin)電(dian)機(ji)的轉軸上分別設置有上主(zhu)(zhu)動(dong)鏈輪和(he)下主(zhu)(zhu)動(dong)鏈輪,上主(zhu)(zhu)動(dong)鏈輪和(he)下主(zhu)(zhu)動(dong)鏈輪分別。

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機器名(ming)稱(cheng):研磨(mo)機(4B)使(shi)用(yong)產品:VFD007A43A應用(yong)場所:晶體研磨(mo)機電器拖動選用(yong)理由:1.替代原來電磁調(diao)速,實現工頻以下平滑調(diao)速.2.低速性能改善,成品率提高(gao).降低設(she)備維護。

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[圖文]研磨機廣(guang)泛用于光(guang)(guang)學晶體玻璃、光(guang)(guang)纖、模(mo)具、導光(guang)(guang)板、閥片、五金(jin)零部(bu)件(jian),液壓密封件(jian)、LED藍寶石,陶瓷(ci),不銹(xiu)鋼等各(ge)種材料(liao)的單面研磨及鏡(jing)面拋光(guang)(guang)。

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本發明屬于光(guang)學元件表(biao)面(mian)加工技術領域,涉(she)及光(guang)學研磨機(ji)(ji)及用其加工半(ban)導體用蘭(lan)寶石晶體基片的(de)方法(fa)。研磨機(ji)(ji)包括機(ji)(ji)架,工作(zuo)臺面(mian)板,一水盆(pen),電機(ji)(ji)及其帶(dai)動的(de)一垂直轉動軸,該。

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本文以有機非線性光學晶(jing)體(ti)二(er)苯甲酮(tong)為對象,在試驗的(de)(de)基礎上探討了軟質、脆性且低熔點(dian)有機晶(jing)體(ti)的(de)(de)切割、研(yan)磨和拋光方法(fa)。二(er)苯甲酮(tong)(Benzophenone)又稱苯酰酮(tong),其。

供應供光學玻璃及石英晶體研磨拋光平面和曲面之用16B型研磨機

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藍寶石晶(jing)體雙面研磨均勻性亞表層損傷摘(zhai)要:為了實現對(dui)藍寶石晶(jing)體的高效(xiao)低損傷研磨加工(gong),對(dui)藍10偉冰(bing);雙面高速研磨機研制[D];長春光學精(jing)密機械學院。

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樣(yang)(yang)品(pin)為配位聚合物(wu)晶體拿晶體樣(yang)(yang)品(pin)壓(ya)平后直接做粉(fen)末XRD,得到圖(tu)譜a;將(jiang)樣(yang)(yang)品(pin)稍微研(yan)磨后,再做粉(fen)末XRD,得到圖(tu)譜b;然后將(jiang)樣(yang)(yang)品(pin)劇烈研(yan)磨,做粉(fen)末XRD,得到圖(tu)譜c三(san)個圖(tu)譜完全不。

藍寶石晶體的雙面研磨加工-《光學精密工程》2009年10期

高精密SY平(ping)面(mian)研磨機(ji)平(ping)面(mian)研磨機(ji)-SY系列(帶水冷修面(mian)立式研磨機(ji))設備用多晶(jing)體金剛石(shi)研磨液(ye)多晶(jing)體金剛石(shi)研磨液(ye)多晶(jing)體金剛石(shi)研磨液(ye)產品(pin)說明:多晶(jing)體金剛石(shi)研磨。

研磨是否會導致二維片層晶體結構嚴重無序化?-晶體-小木蟲-

雙面研(yan)磨機(ji)主要用于兩面平行的(de)晶體或其它機(ji)械零件(jian)進行雙面研(yan)磨,特別是薄脆(cui)性材(cai)料的(de)加工。適用于各種材(cai)質的(de)機(ji)械密封環(huan)(huan)、陶瓷(ci)片(pian)、氣缸(gang)活(huo)塞環(huan)(huan)、油泵葉片(pian)軸承端面及硅、鍺(zang)。

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前言:本(ben)發明屬于光(guang)學(xue)元件表面加(jia)工(gong)(gong)技術(shu)領域,涉(she)及(ji)光(guang)學(xue)研(yan)磨機及(ji)用其(qi)加(jia)工(gong)(gong)半(ban)導體用蘭寶(bao)石(shi)晶體基片的(de)方法(fa)。研(yan)磨機包(bao)括機架,工(gong)(gong)作臺面板,一(yi)水盆,電機及(ji)其(qi)帶(dai)動的(de)一(yi)垂(chui)直轉動。

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用(yong)制備的(de)粒(li)徑(jing)分別(bie)為50nm和300nm的(de)SiO2拋(pao)(pao)光液對(dui)(dui)鈮酸鋰晶(jing)體(ti)樣(yang)品進行化學機(ji)械(xie)拋(pao)(pao)光,研究了壓力(li)、拋(pao)(pao)光盤速度、拋(pao)(pao)光液流量及時間(jian)對(dui)(dui)拋(pao)(pao)光過程的(de)影響。拋(pao)(pao)光結果表明:采用(yong)粒(li)徑(jing)。

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[圖(tu)文(wen)]HJ-雙面平磨機(ji)(ji)本機(ji)(ji)廣泛應(ying)用于(yu)光學玻(bo)璃(li)、石英晶(jing)體(ti)、陶瓷、硅片等行業1.本機(ji)(ji)主體(ti)采用一次成(cheng)型(xing)工藝,合理的結(jie)構大(da)大(da)提升。

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本機廣泛應(ying)用于光學玻璃、石英晶體、陶(tao)瓷、硅(gui)片等行業1.本機主體采用一次成型工藝(yi),合理(li)的結構大大提(ti)升整機剛性度2.提(ti)供優質的傳動系統,運行高(gao)效穩(wen)定,噪音(yin)小3.驅動。

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