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2007年(nian)10月22日(ri)-訪十(shi)七(qi)大代表碳(tan)化硅專家(jia)張立(li)同院士新(xin)聞來(lai)源(yuan):中國研磨(mo)網發布日(ri)期:2007-10MSN:abrasive_#hotmail.(請將#改為@)研磨(mo)群:普磨(mo)及制品(。
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2012年7月(yue)19日-據日經BP社報道,精工(gong)技研公司近(jin)日確立了能實現(xian)高(gao)速、高(gao)精度研磨加工(gong)而備受關注的(de)新一代(dai)半導體(ti)底板材料——碳(tan)化硅(SiC)晶圓的(de)技術。目(mu)前(qian)已經開(kai)始面向(xiang)研究。
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