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2第(di)三節:3第(di)四節:4第(di)四章:氮(dan)(dan)化硅晶須(xu)主要生(sheng)產工(gong)藝詳述(shu)節:氮(dan)(dan)化硅晶須(xu)生(sheng)產工(gong)藝流程(cheng)圖節:氮(dan)(dan)化硅晶須(xu)生(sheng)產原(yuan)材料及設備1.生(sheng)產。

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25氮(dan)(dan)化(hua)硅(gui)粉(fen)末的制(zhi)(zhi)造方(fang)法26氮(dan)(dan)化(hua)硅(gui)粉(fen)末的制(zhi)(zhi)造方(fang)法及設(she)備27氮(dan)(dan)化(hua)硅(gui)粉(fen)體α相轉相裝置28氮(dan)(dan)化(hua)硅(gui)工程陶瓷(ci)燒結(jie)新工藝29氮(dan)(dan)化(hua)硅(gui)和碳(tan)化(hua)硅(gui)一維納米結(jie)構及其制(zhi)(zhi)備方(fang)法。

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[圖文]25、氮化(hua)硅(gui)粉(fen)末(mo)的(de)制造方法26、氮化(hua)硅(gui)粉(fen)末(mo)的(de)制造方法及(ji)設備27、氮化(hua)硅(gui)粉(fen)體α相轉相裝置28、氮化(hua)硅(gui)工程陶瓷燒結新工藝29、氮化(hua)硅(gui)和碳化(hua)硅(gui)一(yi)維納米(mi)結構及(ji)其(qi)制備方法30。

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氮化硅(gui)的(de)(de)生產方(fang)法劉佩(pei)珠摘要:正本(ben)介(jie)紹的(de)(de)Si_3N_4的(de)(de)生產方(fang)法如下:采用固體(ti)二(er)硫化硅(gui)與氣(qi)態氨反(fan)應,溫度控制在800~1450℃,回收無定(ding)形Si_3N_4。。

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在(zai)亞微米(mi)的生(sheng)產制造技術中(zhong),氮化硅工藝的particle已經成為產品良率(lv)的主要影響因素。本文主要針對立式LPCVD氮。

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[圖(tu)文(wen)]摘要(yao):摘要(yao):研究了等離子增強化(hua)學氣相淀積(ji)(PECVD)工藝中射頻條件(功(gong)率和頻率)對氮化(hua)硅薄(bo)膜(mo)應力(li)的影響。對于不同射頻條件下薄(bo)膜(mo)的測試結果(guo)表(biao)明:低頻(LF)時氮化(hua)硅。

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河南(nan)科技(ji)大(da)學畢(bi)業設計(論文(wen))I噴(pen)涂(tu)工(gong)藝(yi)對氮化硅(gui)涂(tu)層(ceng)品質的(de)影響摘要(yao)鑄造因此容易在制造工(gong)藝(yi)中受石英、石墨、設備以及(ji)管道等的(de)沾污。坩堝的(de)使(shi)用一方面提高。

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公司簡介北京金(jin)海(hai)虹氮(dan)化硅有限公司是高新技術(shu)企業,開(kai)發、生(sheng)產高技術(shu)氮(dan)化硅結合先進(jin)的(de)生(sheng)產設備(bei),獨特的(de)生(sheng)產工藝,完善(shan)的(de)檢測手段,科學的(de)管理(li)體(ti)系,2005年5月獲得(de)。

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,經過多年(nian)的研(yan)制(zhi)、創新(xin),研(yan)發(fa)(fa)(fa)出全(quan)新(xin)的陶(tao)瓷配方以及一體化(hua)高純(chun)氮(dan)化(hua)硅(gui)陶(tao)瓷生(sheng)產工(gong)藝。高純(chun)氮(dan)化(hua)硅(gui)陶(tao)瓷熱(re)(re)面發(fa)(fa)(fa)熱(re)(re)體燃氣設備用(yong)熱(re)(re)面發(fa)(fa)(fa)熱(re)(re)體高純(chun)氮(dan)化(hua)硅(gui)陶(tao)瓷電熱(re)(re)塞柴油。

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