化學機械研磨后清洗技術簡介_百度文庫
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芯片制(zhi)造化學(xue)機械(xie)研(yan)磨廢水(shui)處理回用(yong)摘(zhai)要:化學(xue)機械(xie)研(yan)磨廢水(shui)產生量大但總體(ti)污染物濃度不(bu)高,回用(yong)潛力巨大,其處理及回用(yong)技術(shu)是(shi)芯片制(zhi)造企業的研(yan)究。文章。
化學機械研磨廢水處理及回用技術的研究進展-《環境科學與技術》
“楔形”TEM樣品的機(ji)械(xie)研磨制(zhi)(zhi)備技術張啟(qi)華,趙(zhao)燕(yan)麗(li),高強,李(li)明,牛崇實(shi),簡維廷(中芯國際(ji)集成電(dian)路制(zhi)(zhi)造有限公(gong)司,上(shang)海201203)摘(zhai)要:介紹了(le)一種用機(ji)械(xie)。
楔形TEM樣品的機械研磨制備技術-豆丁網
本發明提供了(le)一種化學機械研磨(mo)的(de)方法(fa),包括下列步驟:提供半(ban)導體(ti)襯底,所述半(ban)導體(ti)襯底上具(ju)有(you)介質(zhi)層,所述介質(zhi)層內包含(han)通孔(kong)和/或溝(gou)槽;在介質(zhi)層上及通孔(kong)和/或溝(gou)槽的(de)。
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英特爾半導體(大連(lian))有限公(gong)司招聘化學機(ji)(ji)械研磨液技(ji)術員(yuan)(yuan),發布(bu)時間:2010年04月09日,職位類(lei)別(bie):全職,工作(zuo)地(di)區:大連(lian),職位描述:化學機(ji)(ji)械研磨液技(ji)術員(yuan)(yuan)工作(zuo)要求:?輔助工程師。
一種化學機械研磨的方法_百度搜索
2006年12月18日-近日,應用材料(liao)公司宣布為200mmCMP(化學機(ji)械研磨)系(xi)統推出創新的(de)AppliedDuraPadCMP(化學機(ji)械研磨)拋(pao)光墊(dian)技術。DuraPad的(de)使用壽命比現有的(de)研磨墊(dian)少延(yan)長了(le)。
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英特爾半導體(大連)有限公司招聘化學機械研磨液技術員
近日,應用材料公司宣布為(wei)200mmCMP(化(hua)學(xue)機(ji)械研磨(mo))系統推(tui)出創新的(de)AppliedDuraPadCMP(化(hua)學(xue)機(ji)械研磨(mo))拋光墊(dian)技術。DuraPad的(de)使(shi)用壽命比現有(you)的(de)研磨(mo)墊(dian)少延(yan)長了30%,有(you)效(xiao)地。
應用材料公司推出先進的化學機械研磨拋光墊技術
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應用材料公司推出先進的化學機械研磨拋光墊技術-研磨拋光,專業
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本實用新型涉及一(yi)種化(hua)學機械研(yan)磨(mo)設備,包括(kuo):研(yan)磨(mo)臺(tai)支(zhi)(zhi)(zhi)架(jia);少(shao)兩個研(yan)磨(mo)臺(tai),由下(xia)上分(fen)層設置(zhi)(zhi)于所述研(yan)磨(mo)臺(tai)支(zhi)(zhi)(zhi)架(jia)中,每一(yi)所述研(yan)磨(mo)臺(tai)上表面設置(zhi)(zhi)有研(yan)磨(mo)墊,下(xia)表面設置(zhi)(zhi)有支(zhi)(zhi)(zhi)撐。
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2012年1月18日(ri)-什么是研(yan)(yan)磨加(jia)工?發布時間(jian):2013-01-18來源:機械專家網利用涂敷或壓(ya)嵌在(zai)研(yan)(yan)具上的磨料顆粒,通過研(yan)(yan)具與工件在(zai)一定壓(ya)力。
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先進銅化學機械研磨技術半導體工藝突破65nm節點-測試與測量-
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機械加工中哪些用到研磨工藝_百度知道
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襄(xiang)樊美均機械技術檢測有(you)限(xian)(xian)公(gong)司-企(qi)業簡介公(gong)司主營:拋(pao)光劑,研磨(mo)膏,鑲(xiang)嵌(qian)料,切割機,研磨(mo)機襄(xiang)樊均美檢測技術有(you)限(xian)(xian)公(gong)司成立于(yu)一九九九年(nian),位(wei)處于(yu)湖北(bei)省(sheng)襄(xiang)樊市二汽(qi)。